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X射线光刻机的开发研制
作者姓名:李连进
摘    要:X射线光刻是一种能满足大规模集成电路生产的加工技术。本文论述了X射线光刻技术的发展历史和前景,阐述X射线光刻机的光源、曝光系统、掩摸和步进驱动平台等的主要结构和研制动机,提出在X射线光刻机设计中要注意的几个主要问题。

关 键 词:X射线光刻机 大规模集成电路 制造设备 光源 曝光系统 步地驱动平台
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