| SmCo薄膜的溅射法制备及其磁性能研究 |
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| 引用本文： | 杨国海,黄致新.SmCo薄膜的溅射法制备及其磁性能研究[J].华中师范大学学报(自然科学版),2012,46(3):279-282. |
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| 作者姓名： | 杨国海 黄致新 |
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| 作者单位： | 1. 湖北文理学院物理与电子工程学院,湖北襄阳,441053
2. 华中师范大学物理科学与技术学院,武汉,430079 |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射方法在玻璃基片上制备了SmCo磁性薄膜,并重点研究了溅射功率、溅射时间以及溅射气压等工艺参数对薄膜磁性能的影响.结果发现,当磁性层溅射功率为60 W,溅射气压为0.5Pa,溅射时间为8min,且底层溅射功率为125 W,溅射气压为0.5Pa,溅射时间为4min时,薄膜的矫顽力高达3500Oe.
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| 关 键 词： | SmCo薄膜 磁控溅射 矫顽力 |
Sputtering fabrication and magnetic properties of SmCo thin films |
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| YANG Guohai
,
HUANG Zhixin.Sputtering fabrication and magnetic properties of SmCo thin films[J].Journal of Central China Normal University(Natural Sciences),2012,46(3):279-282. |
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| Authors: | YANG Guohai HUANG Zhixin |
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| Institution: | 1.School of Physics and Electronic Engineering,Hubei University of Arts and Science,Xianyang,Hubei 441053; 2.College of Physical Science and Technology,Huazhong Normal University,Wuhan 430079) |
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| Abstract: | |
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