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| 氧空位缺陷对光催化活性的影响及其机制 | |
| 引用本文： | 郝亮,张慧娜,闫建成,程丽君,关苏军,鲁云.氧空位缺陷对光催化活性的影响及其机制[J].天津科技大学学报,2018(5). |
| 作者姓名： | 郝亮 张慧娜 闫建成 程丽君 关苏军 鲁云 |
| 作者单位： | 天津市低碳绿色过程装备国际联合研究中心天津市轻工与食品工程机械装备集成设计与在线监控重点实验室天津科技大学机械工程学院;天津大学仁爱学院;东京理科大学物理学院;千叶大学工学研究院机械系 |
| 摘 要： | 氧空位作为最常见且最重要的一类晶体缺陷,对半导体光催化剂的性能有着显著的影响.近年来,通过引入和调控氧空位的方法来改善光催化活性,尤其是可见光性能,成为光催化研究领域的热点之一.本文详细阐述了含氧化合物中存在的氧空位缺陷对光催化剂的电子结构、几何构造、吸光特性、表面吸附解离等的影响,并在此基础上讨论了氧空位对光生电荷分离、光催化选择性、紫外光及可见光催化活性的影响,以期为今后氧空位缺陷调控型高性能光催化材料的设计及开发提供科学依据. |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |