| 超平坦化Gd3Ga5O12(111)基片用于石榴石结构材料薄膜的生长 |
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| 引用本文： | 徐振峰. 超平坦化Gd3Ga5O12(111)基片用于石榴石结构材料薄膜的生长[J]. 黑龙江大学自然科学学报, 2007, 24(2): 275-277 |
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| 作者姓名： | 徐振峰 |
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| 作者单位： | 辽东学院,教育技术中心,辽宁,丹东,118001 |
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| 摘 要： | 通过高温退火处理获得了具有在原子尺度范围内平坦化表面的Gd3Ga5O12(111)基片。在此基片上生长的Y3Fe5O12薄膜的表面光滑度有明显提高。与商品的Gd3Ga5O12(111)基片相比,超平坦化的Gd3Ga5O12(111)基片在生长石榴石结构材料薄膜方面具有明显的优越性。
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| 关 键 词： | 表面平坦化 基片 石榴石 薄膜 |
| 文章编号： | 1001-7011(2007)02-0275-03 |
| 修稿时间： | 2006-12-26 |
Ultrasmooth Gd3Ga5O12( 111 ) substrates by high-temperature annealing |
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| XU Zhen-feng. Ultrasmooth Gd3Ga5O12( 111 ) substrates by high-temperature annealing[J]. Journal of Natural Science of Heilongjiang University, 2007, 24(2): 275-277 |
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| Authors: | XU Zhen-feng |
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| Abstract: | Ultrasmooth Gd3Ga5O12(111) substrates were obtained by annealing at specified high temperatures.Surface smoothness of the yttrium iron garnet(YIG) films grown on these substrates was greatly improved,suggesting that the ultrasmooth Gd3Ga5O12(111) substrates are superior to the commercial ones in growth of garnet films. |
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| Keywords: | surface smoothness substrate garnet film |
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