| 多层成分调制膜结构的低角X射线衍射研究 |
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| 引用本文： | 汪卫华.多层成分调制膜结构的低角X射线衍射研究[J].科学通报,1993,38(10):894-894. |
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| 作者姓名： | 汪卫华 |
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| 作者单位： | 中国科学院物理研究所，中国科学院物理研究所，中国科学院物理研究所，中国科学院物理研究所，中国科学院国际材料物理中心 北京 100080，北京 100080，北京 100080，北京 100080，沈阳 110015 |
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| 摘 要： | 组分调制多层膜(ML)是由两种不同组元的纳米量级的薄膜交替沉积形成的,它有两个重要的结构特征:纳米级的调制周期和高密度界面。这种独特结构使得ML具有很多独特的性能,在应用及基础研究上都具有重要意义。ML在垂直膜面方向的层状结构在X射线辐照下也产生Bragg衍射,但它产生的调制峰出现在低角位置(2θ<10°)。调制峰包含多层膜的结构信息。本文报道了用低角X射线衍射(LXRD)对不同系列的多层膜的研究结果,结合光学原理精确地确定了其平均调制周期、平均成分,对界面粗糙度进行了评估,同时还
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| 关 键 词： | X射线衍射 调制峰 界面 多层调制膜 |
| 收稿时间： | 1992-10-27 |
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