不同限根深度对基质栽培黄瓜生长发育及果实品质的影响 |
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作者姓名: | 张双玉 马骏 曹霞 谢洋 武春成 |
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作者单位: | 河北科技师范学院园艺科技学院河北省特色园艺种质挖掘与创新利用重点实验室 |
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基金项目: | 河北省高等学校科学技术研究重点项目(项目编号:ZD2020337,ZD2019018);;河北省现代农业产业体系项目(项目编号:HBCT2018030209); |
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摘 要: | 以黄瓜‘津优35’为供试品种,采用PVC柱基质栽培的方式,试验设置了20,30,40 cm等3个深度处理,探究了不同限根深度对设施基质栽培黄瓜生长发育和果实品质的影响。结果表明:限根40 cm处理的黄瓜株高最高,比限根20 cm处理单株产量提高67.38%,各处理植株根系垂直分布近50%处于表层0~10 cm空间内且随着深度加深而减少。限根深度在一定程度上影响了果实中营养物质的积累,限根20 cm处理黄瓜果实中可溶性糖、Vc和可溶性蛋白质质量分数显著高于限根40 cm处理。限根深度能够影响黄瓜植株地上地下部形态建成和果实品质,黄瓜基质栽培限根深度40 cm可满足植株生产需求,限根20 cm果实品质较好。
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关 键 词: | 黄瓜 限根深度 根系生长 果实品质 |
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