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| 集成电路的新工艺——光学蒙片法 | |
| 引用本文： | 吕联合.集成电路的新工艺——光学蒙片法[J].广东科技,1994(6). |
| 作者姓名： | 吕联合 |
| 摘 要： | 为了在硅片上蚀刻出集成电路,需使光线通过一个蒙片(蒙片上具有已设计好的电子线路)照在硅片表面的一层光敏薄膜上,经过一些处理,蒙片上的线路就会原原本本地复制到硅片上,这种工艺被称为照相平版印刷术。目前,一些科学家另辟新径,他们不是让光线通过固态的蒙片,而是将原子束直接通过由纯光线构成的“蒙片”。利用这种方法,可以 |
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