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| 膜厚控制波长的校正 | |
| 引用本文： | 杨葆塘.膜厚控制波长的校正[J].西北大学学报,1978(3). |
| 作者姓名： | 杨葆塘 |
| 摘 要： | 在真空蒸镀光学薄膜时,为了便于用光学方法控制膜厚(如极值法、双色法,波长调制法),膜系中膜层的光学厚度,常常是用光波波长的四分之一来表示的。而基片上的膜厚是通过测量控制片上的膜厚来控制的。但由于:(1)控制片和基片相对于蒸发源的位置和转动情况不同;(2)光线在控制片上的入射角不同;以及(3)膜片在使用时光线的入射角不同。所以膜系中规定膜厚的波长,不能直接用作控制波长,而必须加以校正。下面分三种情况分别讨论。一、因控制片和基片相对于蒸发源的位置和转动情况不同,而引起的膜厚增长率不同的 |
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