Co纳米线阵列膜热处理前后的结构与磁性研究 |
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作者姓名: | 彭勇 周荣洁 肖君军 力虎林 陈兆杰 |
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作者单位: | 1. 兰州大学化学系, 2. 兰州大学 |
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基金项目: | 国家自然科学基金!(批准号: 69890220) |
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摘 要: | 在具有纳米级孔洞的多孔氧化铝模板上,用电化学方法成功地制备出钴纳米线有序阵列复合膜。分别用透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)、选区电子衍射(SAED)、X射线衍射仪和振动样品磁强计(VSM)对样品进行了测试表征。形貌和物相分析表明,模板中的Co纳米线均匀有序,彼此独立,相互平行,每根纳米线由一串微晶粒构成。Co纳米线属六方密堆积结构,有很好的结晶取向,晶体的C轴沿纳米线轴定向排列。热处理能优化Co纳米线的结晶取向。磁性研究显示,纳米线长到一定程度后,长度的增加不再影响它的矫顽力。纳米线短和纳米线长时,存在两种不同的磁化反转机制,对短纳米线,磁化反转机制为旋转型。在这种机制中,热处理导致矫顽力增大。对长纳米线,反磁化机制为畴壁位移。在这同制中,热处理引起矫顽力减小。微磁学计算模拟证明了它们的磁化反转机理。
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关 键 词: | 多孔阳极氧化铝 磁性金属 电沉积 热处理 物相分析 矫顽力 磁化反转机制 反磁化核 磁记录 钴纳米线 |
收稿时间: | 2000-06-19 |
修稿时间: | 2000-06-19 |
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