| 离子束溅射Fe和Cu薄膜初生过程的原位研究 |
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| 引用本文： | 杨春生,戚震中,徐东,周狄,蔡炳初.离子束溅射Fe和Cu薄膜初生过程的原位研究[J].科学通报,1996,41(10):955-958. |
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| 作者姓名： | 杨春生 戚震中 徐东 周狄 蔡炳初 |
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| 作者单位： | 上海交通大学信息存储研究中心 上海200030
(杨春生，戚震中，徐东，周狄)，上海交通大学信息存储研究中心 上海200030(蔡炳初) |
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| 摘 要： | 薄膜初生过程对薄膜的结构,界面的形成和性能有着重要的影响.真空蒸发沉积薄膜的大量研究表明:薄膜的生长方式主要有3种:层状方式(Frank-van der Merwe Mode,FMMode)、岛状生长(Volmer-Weber Mode,VW Mode)和层岛混合型(Stranski-KrastanovMode,SK Mode).基片的种类、位向、表面状况和沉积温度对薄膜的初生过程也有较大的作用.然而,作为薄膜制备的主要方法之一的离子束溅射成膜初生过程的研究尚少见报道.由于离子束溅射成膜速度快、质量优、易控制而得到广泛应用.本文应用扫描Auger能谱仪原位研究离子束溅射纯元素成膜的初生过程.利用能谱仪的超高真空环境和二次离子枪完整地重复了正常的离子束溅射铜,铁元素的成膜过程,较为直观地了解了溅射成膜的整个过程.
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| 关 键 词： | 离子束溅射 初生过程 薄膜 铁 铜 原位 |
| 收稿时间： | 1995-04-25 |
| 修稿时间： | 1995-08-15 |
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