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Si亚微米MOSFET Monte carlo模拟中散射机制的研究
引用本文:董立亭.Si亚微米MOSFET Monte carlo模拟中散射机制的研究[J].甘肃联合大学学报(自然科学版),2007,21(1):40-43,48.
作者姓名:董立亭
作者单位:贵州大学,电子科学系,贵州,贵阳,550025
摘    要:讨论了用Monte carlo法模拟半导Si内电子输运现象的散射机制,探讨并确定自由飞行时间的自散射方法,模拟电子在不同高场下的输运过程,并分析了速度过冲效应产生的原因.

关 键 词:Monte  Carlo方法  自由飞行时间  散射机制  亚微米半导体器件
文章编号:1672-691X(2007)01-0040-05
收稿时间:2006-10-12
修稿时间:2006年10月12

Study on Scattering Mechanism in Submiron Si MOSFET Monte Carlo Simulation
DONG Li-ting.Study on Scattering Mechanism in Submiron Si MOSFET Monte Carlo Simulation[J].Journal of Gansu Lianhe University :Natural Sciences,2007,21(1):40-43,48.
Authors:DONG Li-ting
Abstract:In this article, the author discusses the electronics transport process scattering mechanism in Si,probe in the self-sacttering methord to confirm the free-flight motion time. Then,the author simulates the electronics transport process in different high electric field ,and analyses the reasons of electronic velocity overshoot effect.
Keywords:monte carlo methord  free-flight motion time  scattering mechanism  suhmiron semiconductor device
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