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| 直接光CVD SiO2膜沉积速率的研究 | |
| 作者单位： | ：四川大学物理系，成都610064 |
| 摘 要： | 根据光吸收定律和边界层理论，得到了直接光CVD SiO |
| 关 键 词： | 光化学反应 光吸收 真空紫外光 直接光CVD 沉积速率 |
| 修稿时间： | 1998-10-12 |
STUDY OF DEPOSITION RATE EQUATION OF SiO2 FILM BY DIRECT PHOTO CVD METHOD |
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| Abstract: | |
| Keywords: | |
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