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| 多孔硅薄膜的微结构及其XRD研究 | |
| 引用本文： | 龙永福,张晋平,胡惟文,雷立云,黎小琴.多孔硅薄膜的微结构及其XRD研究[J].湖南文理学院学报(自然科学版),2014(2):52-55,85. |
| 作者姓名： | 龙永福 张晋平 胡惟文 雷立云 黎小琴 |
| 作者单位： | 湖南文理学院物理与电子科学学院 |
| 基金项目： | 光电信息集成与光学制造技术湖南省重点实验室项目;湖南文理学院重点学科建设项目(无线电物理);湖南省光电信息技术校企联合人才培养基地项目 |
| 摘 要： | 使用扫描电子显微镜、原子力显微镜和X射线衍射研究了多孔硅薄膜的微结构.SEM图像显示：多孔硅膜表面的微结构比较均匀；沿纵向方向薄膜内部空腔呈流线型分布；孔和孔之间的间距为10～20 nm.AFM形貌表明：其表面在1×1μm范围内的均方根粗糙度为4.75 nm.XRD结果说明：多孔硅薄膜晶体晶格常数随深度增加而变大,多孔硅薄膜孔壁上Si？H键的比例将减少. |
| 关 键 词： | 多孔硅 微结构 AFM SEM XRD |
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