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非晶态Ni—Fe—P合金电沉积的研究
引用本文:何湘柱,龚竹青,蒋汉瀛,夏畅斌.非晶态Ni—Fe—P合金电沉积的研究[J].湖南科技大学学报(自然科学版),1998(4).
作者姓名:何湘柱  龚竹青  蒋汉瀛  夏畅斌
作者单位:中南工业大学冶金物理化学和化学新材料研究所!湖南长沙,410083
基金项目:国家自然科学基金!59674025
摘    要:介绍了一种新的电沉积非晶态Ni—Fe—P合金的方法.用这种方法在室温下电沉积出的非晶态Ni-Fe—P合金镀层外观接近镜面,镀层厚度可达42μm.经X-ray衍射、扫描电子显微镜(SEM)及等离子光谱分析(ICP—AES)证实,所获得的Ni—Fe—P合金镀层为非晶态结构,镀层中主要成分Ni、Fe、P的含量分别为74%~83%、9%~24%和6%~10%,此外,还含有0.01%~0.14%B和C元素,这些元素的存在是导致非晶态Ni—Fe—P合金镀层产生的主要原因.文中对电沉积非晶态NI—Fe—P合金的工艺条件、添加剂HAT和光亮剂HAB1、HAB2的作用和影响进行了分析和探讨.图8,表1,参14

关 键 词:非晶态  Ni—Fe—P合金  电沉积  添加剂

STUDY ON ELECTRODEPOSITION OF AMORPHOUS Ni-Fe-P ALLOY
He Xiangzhu, Gong Zhuqing, Jiang Hanying, Xia Changbin.STUDY ON ELECTRODEPOSITION OF AMORPHOUS Ni-Fe-P ALLOY[J].Journal of Hunan University of Science & Technology(Natural Science Editon),1998(4).
Authors:He Xiangzhu  Gong Zhuqing  Jiang Hanying  Xia Changbin
Abstract:
Keywords:amorphous  Ni-Fe-P alloy  electrodeposition  additives
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