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| 衬底温度对射频磁控溅射制备ZnO薄膜结构的影响 | |
| 引用本文： | 付长凤,陈希明,韩连福. 衬底温度对射频磁控溅射制备ZnO薄膜结构的影响[J]. 天津理工大学学报, 2008, 24(4) |
| 作者姓名： | 付长凤 陈希明 韩连福 |
| 作者单位： | 1. 天津理工大学电子信息与通信工程学院,天津,300191;大庆石油学院数学科学与技术学院,大庆,163318 2. 天津理工大学电子信息与通信工程学院,天津,300191 3. 天津理工大学自动化学院,天津,300191;大庆石油学院电子科学与技术学院,大庆,163318 |
| 基金项目： | 天津市自然科学基金，天津市自然科学基金 |
| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)对不同衬底温度下制备薄膜的相结构和表面形貌进行分析.结果表明,在衬底温度为400℃时制备的ZnO薄膜表面光滑,晶粒尺寸均匀,结构致密,且沿c轴择优生长. |
| 关 键 词： | ZnO薄膜 射频磁控溅射 衬底温度 |
Effect of substrate temperature on the structure of ZnO films prepared by RF magnetron sputtering |
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| FU Chang-feng,CHEN Xi-ming,HAN Lian-fu. Effect of substrate temperature on the structure of ZnO films prepared by RF magnetron sputtering[J]. Journal of Tianjin University of Technology, 2008, 24(4) | |
| Authors: | FU Chang-feng CHEN Xi-ming HAN Lian-fu |
| Abstract: | |
| Keywords: | ZnO thin film RF magnetron sputtering substrate temperature |
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