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高频离子源物理参数对离子束性能的影响
引用本文:孙振武,郑世全,李涛,姜胜南,李玉晓,刘柱华,霍裕平.高频离子源物理参数对离子束性能的影响[J].四川大学学报(自然科学版),2005,42(5):974-977.
作者姓名:孙振武  郑世全  李涛  姜胜南  李玉晓  刘柱华  霍裕平
作者单位:郑州大学物理工程学院,郑州,450052;中国科学院高能物理研究所,北京,100080
摘    要:作者从静电加速器用高频离子源的结构出发,通过实验台上的调试,测试并分析了振荡器板压、气压和引出电压对离子束性能的影响.结果表明,在575 V板压、7.7×10-4Pa气压、1.6 kV引出电压和21 kV聚焦电压的状态下,可得到束流为169μA、质子比为88%的稳定离子束.

关 键 词:静电加速器  离子束  离子源  束流  振荡器
文章编号:0490-6756(2005)05-0974-04
收稿时间:2005-01-07
修稿时间:2005-01-072005-05-31

Effects of Physical Factors of RF Ion Source on Quality of Ion Beam
SUN Zhen-wu,ZHENG Shi-quan,LI Tao,JIANG Sheng-nan,LI Yu-xiao,LIU Zhu-hua,HUO Yu-ping.Effects of Physical Factors of RF Ion Source on Quality of Ion Beam[J].Journal of Sichuan University (Natural Science Edition),2005,42(5):974-977.
Authors:SUN Zhen-wu  ZHENG Shi-quan  LI Tao  JIANG Sheng-nan  LI Yu-xiao  LIU Zhu-hua  HUO Yu-ping
Institution:SUN Zhen-wu~1,ZHENG Shi-quan~1,LI Tao~1,JIANG Sheng-nan~1,LI Yu-xiao~1,LIU Zhu-hua~3,HUO Yu-ping~1
Abstract:
Keywords:electrostatic accelerator  ion beam  ion source  beam current  oscillator
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