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| 纳米压印胶专利技术研发态势 | |
| 引用本文： | 罗联源,边昕,李明瑞,戴翀,李珍珍,郜珺珩.纳米压印胶专利技术研发态势[J].科学观察,2020,15(3):12-28. |
| 作者姓名： | 罗联源 边昕 李明瑞 戴翀 李珍珍 郜珺珩 |
| 作者单位： | 国家知识产权局专利局光电技术发明审查部 北京100088;国家知识产权局专利局光电技术发明审查部 北京100088;国家知识产权局专利局光电技术发明审查部 北京100088;国家知识产权局专利局光电技术发明审查部 北京100088;国家知识产权局专利局光电技术发明审查部 北京100088;国家知识产权局专利局光电技术发明审查部 北京100088 |
| 摘 要： | 纳米压印胶是目前纳米压印技术研发的关键材料,对纳米压印的质量起到关键作用。该文从纳米压印胶的基本技术概况出发,分析阐述了当前纳米压印胶专利技术的专利申请态势、主要申请人和重点技术,梳理了该技术的发展脉络,绘制了技术演进路线图,并对技术发展趋势进行了预测。 |
| 关 键 词： | 纳米压印胶 技术 态势 |
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