| 镍离子束动态增强沉积多元氮化物膜 |
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| 引用本文： | 张涛,李国卿,张荟星.镍离子束动态增强沉积多元氮化物膜[J].北京师范大学学报(自然科学版),2000,36(5):646-648. |
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| 作者姓名： | 张涛 李国卿 张荟星 |
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| 作者单位： | 1. 北京师范大学低能核物理研究所,射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京辐射中心: 100875,北京
2. 大连理工大学物理学系,116023,大连 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划);; |
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| 摘 要： | 采用镍离子束动态增强沉积合成膜层，对膜层进行了分析，测试了膜层试样的电化学性能，与非增强沉积膜层相比，镍离子束动态增强沉积膜层有更好的电化学耐蚀性能。
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| 关 键 词： | 金属离子束 薄膜 表面改性 |
| 修稿时间： | 2000年4月4日 |
Ni ION BEAM ENHANCED DEPOSITION OF NITRIDE FILM |
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| Zhang Tao,Li Guoqing,Zhang Huixing.Ni ION BEAM ENHANCED DEPOSITION OF NITRIDE FILM[J].Journal of Beijing Normal University(Natural Science),2000,36(5):646-648. |
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| Authors: | Zhang Tao Li Guoqing Zhang Huixing |
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| Institution: | Zhang Tao 1) Li Guoqing 2) Zhang Huixing 1) |
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| Abstract: | Metal ion beam enhanced deposition is used to prepare nitride films. The film is characterized with XRD, XPS and TEM. The electrochemical property of the films is measured. It is shown that metal ion beam enhanced deposition improved the property. |
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| Keywords: | metal ion beam thin film surface modification |
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