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真空镀膜膜厚均匀性的理论分析
引用本文:
徐力,吕江.真空镀膜膜厚均匀性的理论分析[J].天津理工学院学报,1999,15(A05):102-104,113.
作者姓名:
徐力
吕江
摘 要:
就真空镀膜机内几何配置对薄膜均匀性的影响进行了理论分析,得到了实际工作具有参考价值的结论,调整真空室内的几何配置可以获得最佳的薄膜均匀性。
关 键 词:
薄膜
均匀性
几何配置
真空镀膜
厚度
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