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| 化学气相沉积法制备光谱选择性碲膜 | |
| 引用本文： | 马玉天,龚竹青,徐卫红,武浚,杨余芳. 化学气相沉积法制备光谱选择性碲膜[J]. 中南大学学报(自然科学版), 2006, 37(5): 908-912 |
| 作者姓名： | 马玉天 龚竹青 徐卫红 武浚 杨余芳 |
| 作者单位： | 1. 中南大学,冶金科学与工程学院,湖南,长沙,410083;金川集团公司,甘肃,金昌,737100 2. 中南大学,冶金科学与工程学院,湖南,长沙,410083 3. 金川集团公司,甘肃,金昌,737100 |
| 摘 要： | 用化学气相沉积法制备碲薄膜,其步骤为：通过电化学方法制得碲化氢,碲化氢在室温下分解后在聚乙烯塑料箔上沉积得到碲薄膜.用傅里叶红外光谱仪、紫外/可见/近红外光谱仪、X射线衍射仪及扫描电镜表征碲薄膜的光学性能和结构.结果表明,化学气相沉积法在Mn-O覆盖的聚乙烯塑料箔上沉积得到的碲薄膜在大气窗口（8～13μm）光谱区域具有很高的透过率,同时能阻挡几乎所有的太阳光谱,表明碲薄膜是适用于辐射制冷装置的太阳光辐射屏蔽材料. |
| 关 键 词： | 辐射制冷 化学气相沉积 碲化氢 碲膜 |
| 文章编号： | 1672-7207(2006)05-0908-05 |
| 收稿时间： | 2006-03-11 |
| 修稿时间： | 2006-03-11 |
Preparation of tellurium films with spectral selectivity by chemical vapour deposition method |
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| MA Yu-tian,GONG Zhu-qing,XU Wei-hong,WU Jun,YANG Yu-fang. Preparation of tellurium films with spectral selectivity by chemical vapour deposition method[J]. Journal of Central South University:Science and Technology, 2006, 37(5): 908-912 | |
| Authors: | MA Yu-tian GONG Zhu-qing XU Wei-hong WU Jun YANG Yu-fang |
| Affiliation: | 1. School of Metallurgical Science and Engineering, Central South University, Changsha 410083, China; 2, Jinchuan Group Limited, Jinchang 737100, China |
| Abstract: | |
| Keywords: | radiative cooling chemical vapour deposition hydrogen telluride tellurium film |
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