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酞菁铁-邻苯二甲酸二正辛酯修饰碳糊电极测定抗坏血酸的研究与应用
引用本文:刘传银,胡军福,李新民,陆光汉.酞菁铁-邻苯二甲酸二正辛酯修饰碳糊电极测定抗坏血酸的研究与应用[J].西南师范大学学报(自然科学版),2005,30(2):289-292.
作者姓名:刘传银  胡军福  李新民  陆光汉
作者单位:1. 郧阳师范高等专科学校,化学系,湖北,丹江口,442700;华中师范大学,化学学院,湖北,武汉,430079
2. 郧阳师范高等专科学校,化学系,湖北,丹江口,442700
3. 华中师范大学,化学学院,湖北,武汉,430079
基金项目:郧阳师专青年科研资助项目(2004C02).
摘    要:制备了酞菁铁-邻苯二甲酸二正辛酯修饰碳糊电极,发现该电极对抗坏血酸的电氧化具有催化作用.在最优化条件下,抗坏血酸的氧化峰电流与其浓度在1.0×10-6~3.4×10-4mol/L范围内成良好的线性关系,检测限为3.2×10-7mol/L.初步讨论了电催化机理.该电极已成功用于果汁和药品维生素C片中的抗坏血酸含量的测定.

关 键 词:修饰碳糊电极  酞菁铁  抗坏血酸  电催化
文章编号:1000-5471(2005)02-0289-04
修稿时间:2004年5月18日

Voltammetric Determination of Ascorbic Acid at a Carbon Paste Electrode Modified with Iron (Ⅱ) Phthalocyanine and Dioctyl Phthalate
LIU Chuan-yin,HU Jun-fu,LI Xin-min,LU Guang-han.Voltammetric Determination of Ascorbic Acid at a Carbon Paste Electrode Modified with Iron (Ⅱ) Phthalocyanine and Dioctyl Phthalate[J].Journal of Southwest China Normal University(Natural Science),2005,30(2):289-292.
Authors:LIU Chuan-yin  HU Jun-fu  LI Xin-min  LU Guang-han
Abstract:
Keywords:
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