射频磁控溅射法制备CdTe薄膜及其性质的研究 |
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作者姓名: | 颜璞 黎兵 李愿杰 黄杨 王洪浩 孟奕峰 刘才 冯良桓 |
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作者单位: | 四川大学材料科学与工程学院;四川大学材料科学与工程学院;四川大学材料科学与工程学院;四川大学材料科学与工程学院;四川大学材料科学与工程学院;四川大学材料科学与工程学院;四川大学材料科学与工程学院;四川大学材料科学与工程学院 |
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摘 要: | 为了制备高效率的CdS/CdTe薄膜叠层太阳电池,本文采用射频磁控溅射技术在不同温度玻璃衬底上制备了CdTe多晶薄膜. 利用X射线衍射仪其微结构;用紫外分光光度计测量薄膜的透过谱,计算出了能隙Eg;利用原子力显微镜表征其微观形貌. 结果显示在常温时沉积的薄膜晶面取向性好,为立方闪锌矿型结构,有较低的透过率. 以上结果表明,用射频磁控溅射技术更适于制备CdS/CdTe薄膜叠层太阳电池中的CdTe薄膜.
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关 键 词: | CdTe;薄膜;射频(RF)磁控溅射 |
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