| 射频磁控溅射高饱和磁化强度Fe-N薄膜 |
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| 引用本文： | 姜恩永,陈逸飞,李志青,白海力. 射频磁控溅射高饱和磁化强度Fe-N薄膜[J]. 天津大学学报(自然科学与工程技术版), 2005, 38(7): 573-576 |
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| 作者姓名： | 姜恩永 陈逸飞 李志青 白海力 |
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| 作者单位： | 天津大学现代材料物理研究所，天津大学现代材料物理研究所，天津大学现代材料物理研究所，天津大学现代材料物理研究所 天津300072，天津300072，中国民用航空学院理学院，天津300300，天津300072，天津300072 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(50072015)，教育部专项研究博士点基金资助项目(20020056018). |
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| 摘 要： | 用射频磁控溅射法分别在具有20nmFe衬底的Si(100)和NaCl单晶基片上成功地制备出具有高饱和磁化强度的Fe-N薄膜.用X射线衍射仪、透射电子显微镜和振动样品磁强计研究了氮气分压和基片温度对Fe-N薄膜相结构和磁性的影响.结果表明,当氮气分压为2.66×10-2Pa,基片温度为100~150℃时,最有利于α-″Fe16N2相的形成.在此条件下制备的Fe-N薄膜的饱和磁化强度高达2.735T,超过纯Fe的饱和磁化强度值.
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| 关 键 词： | Fe-N薄膜 饱和磁化强度 射频磁控溅射 |
| 文章编号： | 0493-2137(2005)07-0573-04 |
| 修稿时间： | 2004-04-13 |
Fe-N Thin Films with High Saturation Magnetization Deposited by Rrdio Frequeney Magnetron Sputtering |
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| JIANG En-yong,CHEN Yi-fei. Fe-N Thin Films with High Saturation Magnetization Deposited by Rrdio Frequeney Magnetron Sputtering[J]. Journal of Tianjin University(Science and Technology), 2005, 38(7): 573-576 |
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| Authors: | JIANG En-yong CHEN Yi-fei |
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| Affiliation: | JIANG En-yong~1,CHEN Yi-fei~ |
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| Keywords: | Fe-N thin films saturation magnetization radio frequeney magnetron sputtering |
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