| 多孔氧化铝的整流特性研究 |
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| 引用本文： | 石明吉,李清山,赵波,李修善,石礼伟. 多孔氧化铝的整流特性研究[J]. 曲阜师范大学学报, 2006, 32(3): 69-72 |
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| 作者姓名： | 石明吉 李清山 赵波 李修善 石礼伟 |
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| 作者单位： | 曲阜师范大学物理工程学院;曲阜师范大学生命科学学院,273165,山东省曲阜市;中科院半导体所半导体材料科学重点实验室,100083,北京市 |
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| 摘 要： | 在温度0℃下，采用阳极氧化法分别在15％wt的硫酸水溶液、0．3mol／L的草酸水溶液和0．3mol／L的磷酸水溶液中制备了多孔氧化铝薄膜．电压分别为18V、40V和90V，氧化时间是1h．利用扫描电子显微镜（SEM）对多孔氧化铝薄膜的结构形貌进行了表征，测量了Al／Al2O3界面的电流电压（I-U）特性曲线，并对多孔铝整流特性的机理进行了分析，很好地解释了交流电沉积的原因．随着科技的发展，人类将通过利用多孔铝的整流特性制备出各种各样的性能优良的材料和器件．
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| 关 键 词： | 多孔氧化铝 阳极氧化法 整流特性 |
| 文章编号： | 1001-5337（2006）03-0069-04 |
| 收稿时间： | 2006-02-27 |
| 修稿时间： | 2006-02-27 |
Rectifying Properties of Porous Anodic Alumina |
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| SHI Ming-ji,LI Qing-shan,ZHAO Bo,LI Xiu-shan,SHI Li-wei. Rectifying Properties of Porous Anodic Alumina[J]. Journal of Qufu Normal University(Natural Science), 2006, 32(3): 69-72 |
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| Authors: | SHI Ming-ji LI Qing-shan ZHAO Bo LI Xiu-shan SHI Li-wei |
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| Affiliation: | 1.Department of Physies;2.Department of Biology, Qufu Normal University, 273165, Qufu,Shandong; 3. Key Laboratory of Semiconductor Material Science, Institute of Semiconductor, Chinese Academy of Sciences, 100083, Beijing, PRC |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | porous alumina anodization rectifying properties |
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