| 磁控溅射制备FeSi膜的性质 |
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| 引用本文： | 余平,张勇,肖清泉,张晋敏.磁控溅射制备FeSi膜的性质[J].长春师范学院学报,2007(2). |
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| 作者姓名： | 余平 张勇 肖清泉 张晋敏 |
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| 作者单位： | 贵州大学计算机科学与工程学院电子科学系 贵州贵阳550025 |
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| 基金项目： | 贵州省大学生创业基金(701059101) |
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| 摘 要： | 本文利用JGP-560CⅧ型带空气锁的超高真空多功能溅射系统在Si(100)和玻璃基底上沉积了介质薄膜、半导体薄膜、金属薄膜和磁性薄膜,通过实验研究得到各种薄膜较好的镀膜条件;并采用可变入射角椭圆偏振光谱仪对其中一些薄膜的光学性质进行了分析,研究了制备条件对薄膜在可见光范围内光学性质的影响;还研究了直流溅射、射频溅射、反应溅射的特点和它们的适用范围。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 薄膜 椭偏仪 反应溅射 |
Films Material Prepared by Magnetron Sputtering |
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| YU Ping,ZHANG Yong,XIAO Qing-quan,ZHANG Jin-min.Films Material Prepared by Magnetron Sputtering[J].Journal of Changchun Teachers College,2007(2). |
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| Authors: | YU Ping ZHANG Yong XIAO Qing-quan ZHANG Jin-min |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputtering thin films ellipsometer reactive magnetron sputtering |
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