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制备PZT薄膜的Sol-Gel工艺研究
作者姓名:于军2周文利  曹广军  谢基凡
基金项目:国家863高科技计划资助
摘    要:比较了SolGel工艺制备PZT薄膜的两种热处理过程成膜情况和对PZT/Si结构的影响,其中,低温烘烤、快速升温、高温退火的热处理方式有利于钙钛矿相成相.但是PZT薄膜完成全过程退火后难以进行图形加工.对含有SiO2的Si衬底上的情况分析表明SiO2有改善界面特性的作用

关 键 词:SolGel工艺;钙钛矿相;热处理;图形加工
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