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| 制备PZT薄膜的Sol－Gel工艺研究 | |
| 引用本文： | 于军周文利,曹广军,谢基凡.制备PZT薄膜的Sol－Gel工艺研究[J].华中科技大学学报(自然科学版),1996(4). |
| 作者姓名： | 于军周文利 曹广军 谢基凡 |
| 基金项目： | 国家863高科技计划资助 |
| 摘 要： | 比较了ＳｏｌＧｅｌ工艺制备ＰＺＴ薄膜的两种热处理过程成膜情况和对ＰＺＴ／Ｓｉ结构的影响，其中，低温烘烤、快速升温、高温退火的热处理方式有利于钙钛矿相成相．但是ＰＺＴ薄膜完成全过程退火后难以进行图形加工．对含有ＳｉＯ２的Ｓｉ衬底上的情况分析表明ＳｉＯ２有改善界面特性的作用 |
| 关 键 词： | SolGel工艺 钙钛矿相 热处理 图形加工 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |