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液滴喷射技术在全聚合物薄膜晶体管制备中的应用
引用本文:刘赵淼,刘华敏,张谭.液滴喷射技术在全聚合物薄膜晶体管制备中的应用[J].科技导报(北京),2008,26(13).
作者姓名:刘赵淼  刘华敏  张谭
作者单位:北京工业大学机械工程与应用电子技术学院 北京100022
基金项目:国家自然科学基金 , 北京市留学回国人员科技活动项目
摘    要:研究液滴喷射技术在全聚合物薄膜晶体管制备中的应用,并着重分析电极材料在预成型基底表面的沉积扩散情况。通过数值模拟,分析隔断材料、液滴与隔断间距、液滴碰撞速度3个因素对沉积的影响。结果发现,只有当这3个要素配置合理时,才能保证液滴的正常沉积,从而保证晶体管的质量。例如,当隔断材料采用聚酰亚胺,沟道宽度为5μm,液滴与隔断间距为30μm,液滴碰撞速度为4m/s时,液滴能够正常沉积,晶体管的质量得到保证。本文结果可为TFTs的制作提供一定的参考。

关 键 词:液滴喷射  晶体管  薄膜沉积  数值模拟

Application of Inkjet Printing on Preparation of All Polymer Thin Film Transistors
LIU Zhaomiao,LIU Huamin,ZHANG Tan.Application of Inkjet Printing on Preparation of All Polymer Thin Film Transistors[J].Science & Technology Review,2008,26(13).
Authors:LIU Zhaomiao  LIU Huamin  ZHANG Tan
Abstract:
Keywords:droplet ejection  transistor  film deposition  numerical simulation
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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