PZT薄膜的结晶特性及红外特性

采用电子柬蒸发方法在n—Si（100）衬底上制备Pb（ZrxTi1-x）O3（简记为PZT）多晶薄膜．用X射线衍射分析了PZT薄膜的结晶择优取向与Zr／Ti成分比、生长温度、退火气氛和退火温度的关系．结果表明不同Zr／Ti比的薄膜在真空中退火都形成（110）择优取向；而在空气中退火后薄膜的择优方向与Zr／Ti成分比有关，Zr／Ti比值小时为（101）择优取向，Zr／Ti大时为（100）择优取向．红外吸收光谱的测量结果表明（100）和（110）择优取向的PZT薄膜在长红外波段（8～12um）存在较强的吸收峰，而（101）择优取向的PZT薄膜在这一波段没有明显的吸收峰．

The structure and infrared absorption diagnostics of PZT thin films

Polycrystalline Pb（ Zrx Ti1-x ） O3 （ PZT, with x = 0.05, 0.5,0.95 ） thin films are prepared on n-doped Si （ 100 ） substrates by electron beam evaporation. The X-ray diffraction （XRD） is employed to examine the preferential orientation during deposition or after-grown annealing of the Polycrystalline PZT films. The infrared absorption spectra of the PZT films are also characterized. XRD measurement showed that the Pb（ Zr0.05Ti0.95 ） 03 , Pb（ Zr0.5Ti0.5 ） O3 and Pb（ Zr0.95Ti0.05 ） 03 thin films, after 2 hours annealing in vacuum, has （110） preferential orientation. After annealed in air, the preferential orientation of the Pb （Zr0.05Ti0.95） O3 ,Pb（Zr0.5Ti0.5 ） 03 and Pb（ Zr0.95Ti0.05 ） 03 thin films is （ 101 ）, （110） and （100） respectively. （100） and （110） preferential orientated PZT films have a strong absorption peak in 8 - 12 m wavelength region, whereas the PZT film with （ 101 ） preferential orientation has not.