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责任编辑
分类号
杂志ISSN号
FTO薄膜电子结构和光学性质的PBE0方法研究
作者姓名:
郁建元
王立坤
牛孝友
王丽
赵洪力
作者单位:
燕山大学材料科学与工程学院;唐山学院环境与化学工程系;
摘 要:
本文基于密度泛函理论(DFT)PBE0方法对本征SnO_2及SnO_2∶F电子结构及光学性质进行了理论计算,从理论上描述了光学性质与电子结构关系。计算结果表明,PBE0方法计算光学带隙最接近实验数值。在PBE0赝势下,计算了本征SnO_2及SnO_2∶F能带结构、电子态密度。掺杂后,体系局域态密度增加,费米能级穿越导带底部,F掺杂增强SnO_2的导电性。增加F掺杂浓度,体系等离子体频率降低,有利于降低FTO薄膜红外辐射率。F掺杂SnO_2后,介电函数谱发生红移。
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