| CVD金刚石膜反应器内气相化学的理论研究进展 |
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| 引用本文： | 安希忠,李长兴,刘国权,沈峰满,李友清.CVD金刚石膜反应器内气相化学的理论研究进展[J].中南大学学报(自然科学版),2010,41(3). |
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| 作者姓名： | 安希忠 李长兴 刘国权 沈峰满 李友清 |
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| 作者单位： | 1. 东北大学,材料与冶金学院,辽宁,沈阳,110004
2. 北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 综述CVD金刚石膜沉积过程中反应器内气相化学的理论研究进展,阐述不同条件下反应器内的气相化学反应模型、反应机理及各种数值仿真方法,总结这些气相反应的选取及所对应的动力学机理。研究结果表明:CVD金刚石膜反应器内的气相化学是一个十分复杂的过程,与双碳组元相比,单碳组元对膜沉积的贡献较大,在组元C2H2,C2,CH3,C和CH中,决定膜生长的组元由具体操作条件而定。对CVD金刚石膜反应器内气相化学的研究结果不但可以为探讨膜生长机理的表面化学提供准确输入,还可为高效、优质膜的获得提供理论依据。
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| 关 键 词： | 金刚石膜 化学气相沉积 气相化学 |
Theoretical study progress of gas phase chemistry in CVD diamond film reactor |
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| AN Xi-zhong,LI Chang-xing,LIU Guo-quan,SHEN Feng-man,LI You-qing.Theoretical study progress of gas phase chemistry in CVD diamond film reactor[J].Journal of Central South University:Science and Technology,2010,41(3). |
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| Authors: | AN Xi-zhong LI Chang-xing LIU Guo-quan SHEN Feng-man LI You-qing |
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