射频磁控溅射二氧化硅薄膜的工艺探讨 |
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引用本文: | 叶光,林志贤,郭太良. 射频磁控溅射二氧化硅薄膜的工艺探讨[J]. 龙岩学院学报, 2002, 20(6): 44-45 |
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作者姓名: | 叶光 林志贤 郭太良 |
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作者单位: | 福州大学信息科学与技术学院 |
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摘 要: | 介绍了在玻璃衬底上射频磁控溅射SiO2薄膜的工艺技术,给出了薄膜淀积速率,膜内组分与工艺条件特别是溅射气压的关系。实验证明,和其他镀膜技术相比,射频磁控溅射可以在更低的温度下制备致密、均匀、重复性好的SiO2薄膜。
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关 键 词: | 磁控溅射 SiO2薄膜 淀积速率 |
文章编号: | 1672-044X(2002)06-0044-02 |
修稿时间: | 2002-04-09 |
Deposition of SiO2 Film with Radio Frequency and Magnetron Sputtering |
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Abstract: | |
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Keywords: | |
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