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浅析光刻设备与技术的发展
作者姓名:王桂林
作者单位:西安卫光科技有限公司,710065
摘    要:阐述了光刻设备技术的的发展,描述了浸没式光刻技术、纳米压印光刻工艺设备基本原理、技术优势,并展望几种光刻技术的前景。

关 键 词:光刻设备技术发展  浸没式光刻  纳米压印光刻
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