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责任编辑
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杂志ISSN号
浅析光刻设备与技术的发展
作者姓名:
王桂林
作者单位:
西安卫光科技有限公司,710065
摘 要:
阐述了光刻设备技术的的发展,描述了浸没式光刻技术、纳米压印光刻工艺设备基本原理、技术优势,并展望几种光刻技术的前景。
关 键 词:
光刻设备技术发展
浸没式光刻
纳米压印光刻
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