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光敏剂诱导化学镀镍过程的交流阻抗研究
引用本文:杨玉国,许韵华,孙冬柏,杨德钧. 光敏剂诱导化学镀镍过程的交流阻抗研究[J]. 北京交通大学学报(自然科学版), 2001, 25(6): 48-49
作者姓名:杨玉国  许韵华  孙冬柏  杨德钧
作者单位:北方交通大学理学院 北京100044(杨玉国,许韵华),北京科技大学表面科学与腐蚀工程系 北京100083(孙冬柏),北京科技大学表面科学与腐蚀工程系 北京100083(杨德钧)
摘    要:在光敏剂存在时 ,光照条件下可发生化学镀反应 ,阻抗图谱中出现一个容抗环和一个吸附环 ,吸附是H2 PO-2 在反应过程中的吸附 .

关 键 词:光敏剂  交流阻抗  化学镀镍
文章编号:1000-1506(2001)06-0048-02
修稿时间:2001-03-02

AC Impedance Study of Electroless Nickel Induced by Photosensitizer
YANG Yu_guo ,XU Yun_hua ,SUN Dong_bai ,YANG De_jun. AC Impedance Study of Electroless Nickel Induced by Photosensitizer[J]. JOURNAL OF BEIJING JIAOTONG UNIVERSITY, 2001, 25(6): 48-49
Authors:YANG Yu_guo   XU Yun_hua   SUN Dong_bai   YANG De_jun
Affiliation:YANG Yu_guo 1,XU Yun_hua 1,SUN Dong_bai 2,YANG De_jun 2
Abstract:The mechanism of electroless nickel induced by photosensitizer under illumination was studied with AC impedance method. The results show that the adsorption of H 2PO - 2 plays a key role in the process and the photosensitizer only plays the role of electron transfer.
Keywords:photosensitizer  AC impedance  elctroless nickel
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