| 等离子体增强磁控溅射离子镀TiN膜的电镜研究 |
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| 引用本文： | 王玉魁 张兴龙. 等离子体增强磁控溅射离子镀TiN膜的电镜研究[J]. 大连理工大学学报, 1995, 35(1): 68-73 |
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| 作者姓名： | 王玉魁 张兴龙 |
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| 作者单位： | 大连理工大学材料工程系 |
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| 基金项目： | 三束材料改性国家重点实验室资助项目 |
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| 摘 要： | 利用透射电镜研究了铁基体等离子体增强磁控溅射离子镀ＴｉＮ膜的组织和结构。在沉积ＴｉＮ之前先镀一层极薄的钛中间层，继之再沉积ＴｉＮ。研究结果表明：在基体和中间层界面处有ＦｅＴｉ相；在中间层与后继膜的交接处α－Ｔｉ与Ｔｉ２Ｎ有结构匹配关系；靠近中间层的后继膜由Ｔｉ２Ｎ和ＴｉＮ两相组成；而远离中间层的后继膜部分是ＴｉＮ组成的。
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| 关 键 词： | 等离子体 氮化钛 磁控溅射 离子镀 透射电镜 膜 |
TEM investigation on TiN film deposited by plasma enhanced magnetron sputter ion plating |
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| Wang Yukui,Zhang Xinglong,Han Huimin,Wang Feijie,Gao Lusi. TEM investigation on TiN film deposited by plasma enhanced magnetron sputter ion plating[J]. Journal of Dalian University of Technology, 1995, 35(1): 68-73 |
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| Authors: | Wang Yukui Zhang Xinglong Han Huimin Wang Feijie Gao Lusi |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | plasma medification titanium nitride microstructure/magnetron sputtering |
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