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| 倒置的旋转液膜反应器上底边界半封闭时流场的数值研究 | |
| 引用本文： | 李雪,许兰喜,兰万里.倒置的旋转液膜反应器上底边界半封闭时流场的数值研究[J].北京化工大学学报(自然科学版),2015,42(5). |
| 作者姓名： | 李雪 许兰喜 兰万里 |
| 作者单位： | 北京化工大学化学工程学院,北京,100029;北京化工大学化学工程学院,北京,100029;北京化工大学化学工程学院,北京,100029 |
| 摘 要： | 通过数值模拟,研究了倒置的旋转液膜反应器上底边界半封闭时的流场,进一步研究了雷诺数继续增大时涡的发展和演变,并且对相应的现象给出了解释。研究结果表明,继续增大雷诺数,圆台间涡的个数奇偶交替的周期变大;当雷诺数增大到300时,圆台间最终稳定为偶数个涡,涡的个数不再发生变化。 |
| 关 键 词： | 同轴旋转圆台 雷诺数 泰勒涡 |
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