| 磁控溅射制备的含He纳米晶铜膜的微结构分析 |
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| 引用本文： | 周冰,邓爱红,张丽然,周宇璐,李悦,陈燕. 磁控溅射制备的含He纳米晶铜膜的微结构分析[J]. 四川大学学报(自然科学版), 2011, 48(6): 1371-1374. DOI: 10.3969/j.issn.0490-6756.2011.06.026 |
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| 作者姓名： | 周冰 邓爱红 张丽然 周宇璐 李悦 陈燕 |
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| 作者单位： | 四川大学物理科学与技术学院物理系,成都,610064 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金（10775102） |
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| 摘 要： | 采用直流磁控溅射法，在不同的He/Ar混合气氛下，制备了不同He含量的铜膜.利用弹性反冲探测（ERD）方法探测了铜膜中氦的含量和深度分布，实验发现引入铜膜中的氦深度分布较均匀；并本文采用X射线衍射（XRD）分析了铜膜中氦的微结构，实验结果表明随着铜膜中氦含量的逐渐增加，对应Cu（111）晶面的峰强也有所增强；最后应用了慢正电子束分析（SPBA）技术测量了不同含氦铜膜的缺陷结构，随着铜膜中氦的增加，S参数会发生相应的变化.
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| 关 键 词： | 磁控溅射；纳米晶铜膜；X射线衍射；慢正电子束分析 |
Microstructural study of helium-containing nanocrystalline copper films co-deposited by magnetron sputtering |
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| ZHOU Bing,DENG Ai-Hong,ZHANG Li-Ran,ZHOU Yu-Lu,LI Yue and CHEN Yan. Microstructural study of helium-containing nanocrystalline copper films co-deposited by magnetron sputtering[J]. Journal of Sichuan University (Natural Science Edition), 2011, 48(6): 1371-1374. DOI: 10.3969/j.issn.0490-6756.2011.06.026 |
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| Authors: | ZHOU Bing DENG Ai-Hong ZHANG Li-Ran ZHOU Yu-Lu LI Yue CHEN Yan |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputtering nanocrystalline copper film XRD SPBA |
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