| 离子束溅射沉积薄膜技术概述 |
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| 引用本文： | 郑长波,徐惠敏,杨恒,齐曙光. 离子束溅射沉积薄膜技术概述[J]. 实验室科学, 2007, 40(4): 153-156 |
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| 作者姓名： | 郑长波 徐惠敏 杨恒 齐曙光 |
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| 作者单位： | 1. 南阳师范学院物理与电子工程学院、教务处,河南南阳,473061
2. 南阳市第八中学,河南南阳,473061 |
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| 摘 要： | 离子束溅射技术是近些年发展起来的制备高质量薄膜的一种非常重要的方法，它具有其它制膜技术无法比拟的优点，在制膜过程中，由于沉积速度慢，膜的厚度及质量容易控制。目前国内对这方面研究和介绍甚少。本文主要介绍离子束溅射技术的原理、基本规律及应用前景。
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| 关 键 词： | 离子束溅射 溅射产额 溅射阈能 薄膜 |
| 修稿时间： | 2006-10-25 |
The Summarize of Ion Beam Sputtering Technology |
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| ZHENG Chang-bo. The Summarize of Ion Beam Sputtering Technology[J]. Laboratory Science, 2007, 40(4): 153-156 |
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| Authors: | ZHENG Chang-bo |
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