Cu:SiO2渗流系统电输运特性研究 |
| |
引用本文: | 李振声,邬祥忠.Cu:SiO2渗流系统电输运特性研究[J].天津理工学院学报,2000,16(4):25-27. |
| |
作者姓名: | 李振声 邬祥忠 |
| |
摘 要: | 研究了Cu与SiO2组成的渗流系统的电阻率、霍尔系数等电输运特性,该体系临界指数t高于经典渗流理论的预测数值,不同于其它渗流系统.并且在Cux(SiO2)1-x这一非磁性金属系统中,发现了巨霍尔效应(GHE),其数值高于普通金属近3个数量级,为霍尔传感器材料研究提供了新途径,这种非磁性系统中的巨霍尔效应是由界观尺度的量子干涉效应引起的。
|
关 键 词: | 渗流 巨霍尔效应 纳米材料 |
本文献已被 维普 等数据库收录! |
|