有小剩余间隙的充填电缆在高通量下的介质电导率效应

引 言 系统设计人员认为,在高通量下,应采用加固的电缆,该电缆的编织屏蔽层和线介质之间的间隙(大到几个密耳)可用低原子序数介质充填。然而,实验表明,充填是不完善的,还留有相当于几微米的小间隙。这些剩余间隙,能够大大增强电缆的X射线响应。本文研究了这种有缺陷的充填电缆的高通量(1—20卡/厘米~2)共模X射线响应,同时说明引起介质电导率效应的原因。