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PZT薄膜的制备及特性
引用本文:任玉磊,谢东珠,忻云龙.PZT薄膜的制备及特性[J].上海师范大学学报(自然科学版),2007,36(5):37-40.
作者姓名:任玉磊  谢东珠  忻云龙
作者单位:上海师范大学,数理信息学院,上海,200234
摘    要:用电子束蒸发法在n-Si(100)衬底上制备了Pb(Zr0.52Ti0.48)03(PZT)多晶薄膜,研究了薄膜的表面形貌、结晶特性、红外吸收特性随生长温度和退火温度的变化关系,发现较高的生长温度有利于(101)方向晶粒的择优生长,较高的退火温度能促进(101)方向的晶粒向(110)方向的晶粒转变,(110)择优方向的薄膜对长红外波段的吸收比(101)择优方向的薄膜明显增强.

关 键 词:PZT材料  表面形貌  择优生长  X射线衍射
文章编号:1000-5137(2007)05-0037-04
修稿时间:2007-04-10

The preparation and study on diagnostics of PZT thin films
REN Yu-lei,XIE Dong-zhu,XIN Yun-long.The preparation and study on diagnostics of PZT thin films[J].Journal of Shanghai Normal University(Natural Sciences),2007,36(5):37-40.
Authors:REN Yu-lei  XIE Dong-zhu  XIN Yun-long
Institution:College of Mathematics and Sciences, Shanghai Normal University, Shanghai 200234, China
Abstract:
Keywords:SEM
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