| 化学浴沉积法制备纳米氧化亚铜薄膜 |
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| 引用本文： | 刘明辉,张丽莎,贾志勇,唐一文,余颖.化学浴沉积法制备纳米氧化亚铜薄膜[J].华中师范大学学报(自然科学版),2006,40(1):75-78. |
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| 作者姓名： | 刘明辉 张丽莎 贾志勇 唐一文 余颖 |
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| 作者单位： | 1. 襄樊职业技术学院主校区,湖北,襄樊,441050
2. 华中师范大学,纳米科技研究院,武汉,430079 |
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| 摘 要： | 用改进后的化学浴沉积法制备了纳米Cu2O薄膜，并对成膜条件及膜的性能进行了研究．结果表明：化学浴沉积法改进后有利于制备高质量的纳米Cu2O薄膜；最佳反应温度为60～70C，此温度范围内Cu2O薄膜的膜厚随着循环次数线性增加．制备的薄膜纯度较高．表面较平整和致密，Cu2O粒径为14～22nm，其禁带宽度为2．01eV．
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| 关 键 词： | 纳米氧化亚铜 化学浴沉积法 改进 薄膜 |
| 文章编号： | 1000-1190（2006）01-0075-04 |
| 收稿时间： | 2005-03-25 |
| 修稿时间： | 2005-03-25 |
Preparation of nano-Cu2O thin films using modified chemical bath deposition method |
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| LIU Ming-hui,ZHANG Li-sha,JIA Zhi-yong,TANG Yi-wen,YU Ying.Preparation of nano-Cu2O thin films using modified chemical bath deposition method[J].Journal of Central China Normal University(Natural Sciences),2006,40(1):75-78. |
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| Authors: | LIU Ming-hui ZHANG Li-sha JIA Zhi-yong TANG Yi-wen YU Ying |
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| Institution: | 1. Xiangfan Vocational and Technical College, Xiangfan, Hubei 441050; 2. Institute of Nanoseienee and Technology, Central China Normal University, Wuhan 430079 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | nano-Cu2O chemical bath deposition methods modified thin film |
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