| 不同制备方法对薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 王华清,卢维强,郝孟尧,薛唯. 不同制备方法对薄膜性能的影响[J]. 北京理工大学学报, 2008, 28(10): 930-933 |
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| 作者姓名： | 王华清 卢维强 郝孟尧 薛唯 |
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| 作者单位： | 北京理工大学,信息科学技术学院光电工程系,北京,100081;中国联通有限公司,北京分公司,北京,100038 |
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| 摘 要： | 采用离子束反应溅射、等离子体辅助、射频离子源辅助、Kaufman离子源辅助比较不同制备方法对薄膜性能的影响. 镀制了Ta2O5、SiO2两种材料的单层膜及由它们组成的多层膜. 结果表明:离子束反应溅射能够制备出质量最好的激光膜,抗激光损伤阈值达到17.39J·cm-2,等离子体辅助和射频离子源辅助制备的膜层结构致密、散射比和吸收比小,Kaufman离子辅助制备的膜层各项性能指标都相对较低.
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| 关 键 词： | 薄膜特性 散射 吸收 应力 |
| 收稿时间： | 2008-04-24 |
A Study on Influence of Thin Films Through Different Processes of Deposition |
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| WANG Hua-qing,LU Wei-qiang,HAO Meng-yao and XUE Wei. A Study on Influence of Thin Films Through Different Processes of Deposition[J]. Journal of Beijing Institute of Technology(Natural Science Edition), 2008, 28(10): 930-933 |
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| Authors: | WANG Hua-qing LU Wei-qiang HAO Meng-yao XUE Wei |
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| Affiliation: | Department of Optical Engineering, School of Information Science and Technology, Beijing Institute of Technology, Beijing 100081, China;Department of Optical Engineering, School of Information Science and Technology, Beijing Institute of Technology, Beijing 100081, China;China Unicom Beijing Branch, Beijing 100038, China;Department of Optical Engineering, School of Information Science and Technology, Beijing Institute of Technology, Beijing 100081, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | thin films properties scattering absorb stress |
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