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| 六甲基二硅氧烷与几种环氧硅烷组成的二元体系的密度与折光率研究 | |
| 作者姓名： | 吕叶红 栾文耕 许景 张伟伟 董红 瞿志荣 伍川 |
| 作者单位： | 杭州师范大学有机硅化学及材料技术教育部重点实验室;济宁学院附属高级中学;氟硅精细化学品与材料制造协同创新中心 |
| 摘 要： | 常压下用Anton Paar DMA4500测定了八甲基环四硅氧烷、四甲基环四硅氧烷、四甲基四乙烯基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷与六甲基二硅氧烷4个二元混合体系在298.15K、303.15K、308.15K、313.15K及318.15K下全浓度范围内的密度和折光率.4个二元体系的密度值随着温度的升高而降低,随着六甲基二硅氧烷的摩尔分数的增加而降低;4个二元体系的折光率均随着六甲基二硅氧烷的摩尔分数的增加而降低. |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |