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Si基光子材料的研究进展
引用本文:蒋学华.Si基光子材料的研究进展[J].盐城工学院学报(自然科学版),2002,15(4):62-65.
作者姓名:蒋学华
作者单位:临沂师范学院,物理系,山东,临沂,276005
摘    要:评述了研究开发Si基光子材料的意义,简述了超晶格、能带工程和Si基层质结构的物理机制,介绍了Si基光子材料研究的进展。

关 键 词:研究进展  Si基光子材料  超晶格  能带工程  Si基异质结构  物理机制  半导体材料
文章编号:1671-5322(2002)04-0062-04
修稿时间:2002年8月27日

The Studying Development of Si-Based Photor Material
JIANG Xue hua.The Studying Development of Si-Based Photor Material[J].Journal of Yancheng Institute of Technology(Natural Science Edition),2002,15(4):62-65.
Authors:JIANG Xue hua
Abstract:The meaning of studying and developing Si-based photon material is expressed. The physical mechanism of superlattices, Energy-band project and Si-based heterostructure is expressed. The new studying development of Si-Based photon material is mtroduced.
Keywords:Si-based photon material  ?superlattices  ?energy-band project  ?Si-based heterostructure
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