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| 热红外低比辐射,高温反射比表面 | |
| 引用本文： | 徐则川,刘兴阶.热红外低比辐射,高温反射比表面[J].华中理工大学学报,1997,25(4):83-85. |
| 作者姓名： | 徐则川 刘兴阶 |
| 作者单位： | 固体电子学系 |
| 摘 要： | 在金属和非金属基体上，制备出了热红外低比辐射率以及射率和漫反射率都很低的高温反射比表面。对黄铜基体，Ｔ＝３７３Ｋ，λ≥８μｍ的法向积分比辐射率ε ｎ＝０．１３，Ｔ＝４１３Ｋ，λ＝８－２５μｍ的积分镜反射率Ｒｍ＝０．１５，积分漫反射率ＲＤ＝０．１６；对Ｋ９玻璃基体，Ｔ＝３７３Ｋ，λ≥８μｍ的εｎ＝０．１５，Ｔ＝４１３Ｋ，λ＝８－２５μｍ的Ｒｍ＝０．２１，ＲＤ＝０．１４，对于以Ｋ９玻璃为基体的同种表面 |
| 关 键 词： | 低比辐射率 高漫反射比 红外辐射 电磁波 |
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