| 直流电弧等离子喷射法沉积大面积金刚石厚膜的研究 |
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| 引用本文： | 王少岩,郭辉,孙振路,吴晓波,王志娜,刁习刚,刘秀军,蔡云虹,胡红彦,姜龙,李国华,LI Guo-hua.直流电弧等离子喷射法沉积大面积金刚石厚膜的研究[J].河北省科学院学报,2000,17(1):25-28,48. |
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| 作者姓名： | 王少岩 郭辉 孙振路 吴晓波 王志娜 刁习刚 刘秀军 蔡云虹 胡红彦 姜龙 李国华 LI Guo-hua |
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| 作者单位： | 河北省机电一体化中试基地,石家庄,050081 |
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| 摘 要： | 在自行研制的直流电弧等离子喷射化学气相金刚石膜设备上,初步研究了衬底温度、甲烷浓度、输入功率和循环气量等工艺参数对沉积金刚石膜的影响.总结出了制备各种级别金刚石膜的一般规律.并以11μm/h的沉积速率制备了直径60mm、厚度均匀的高质量自支撑金刚石膜,热导率可达18W/cm·K,厚度为0.7mm,其热导率已接近天然金刚石.
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| 关 键 词： | 直流电弧等离子喷射 CVD 自支撑金刚石厚膜 |
| 修稿时间： | 1999-07-01 |
Study on deposition of large area diamond wafers by DC arc plasma jet |
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| LI Guo-hua.Study on deposition of large area diamond wafers by DC arc plasma jet[J].Journal of The Hebei Academy of Sciences,2000,17(1):25-28,48. |
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| Authors: | LI Guo-hua |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | DC arc plasma jet CVD Diamond wafer |
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