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| 高比表面SiO2微粉的制备及微孔形成机理 | |
| 引用本文： | 杨桦,彭婉茹.高比表面SiO2微粉的制备及微孔形成机理[J].吉林大学自然科学学报,1997(3):82-84. |
| 作者姓名： | 杨桦 彭婉茹 |
| 作者单位： | [1]吉林大学化学系 [2]长春医学高等专科学校药学系 |
| 摘 要： | 采用化学沉淀法合成超细ＳｉＯ２，并用氮吸附静态容量法测量了样品的氮吸附等温线，计算出ＢＥＴ比表面和孔分布，用透射电镜观测了微孔的形态，对高比表面和微孔的形成进行了初步的探讨。 |
| 关 键 词： | 二氧化硅 比表面 微孔分布 制备 超细粉 |
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