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| 镁合金直接化学镀镍的初始沉积机制 | |
| 引用本文： | 向阳辉,胡文彬,沈彬,赵昌正,丁文江.镁合金直接化学镀镍的初始沉积机制[J].上海交通大学学报,2000,34(12):1638-1640. |
| 作者姓名： | 向阳辉 胡文彬 沈彬 赵昌正 丁文江 |
| 作者单位： | 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海200030 |
| 摘 要： | 镁合金直接化学镀镍是其表面处理的一种方法.通过XPS、SAM和SEM对化学镀镍的初始沉积机制进行了研究.结果表明,镍的初始沉积是在活化中形成的氟化膜层下面,按照电化学的方式在第二相上形核的.沉积过程与表面氧化物在镀液中的溶解和基底与镍离子的置换反应有关. |
| 关 键 词： | 化学镀镍 镁合金 初始沉积 |
| 文章编号： | 1006-2467(2000)12-1638-03 |
| 修稿时间： | 1999年11月5日 |
Initial Deposition Mechanism of Direct Electroless Nickel Plating on Magnesium Alloy |
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