| 阴极溶出伏安法测定痕量硒(Ⅳ) |
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| 引用本文： | 臧树良,王歆睿,铁梅,孙铁彪,田冬梅,邓桂春.阴极溶出伏安法测定痕量硒(Ⅳ)[J].辽宁大学学报(自然科学版),2005,32(4):289-292. |
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| 作者姓名： | 臧树良 王歆睿 铁梅 孙铁彪 田冬梅 邓桂春 |
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| 作者单位： | 辽宁大学,化学与工程学院,沈阳,110036;辽宁大学,化学与工程学院,沈阳,110036;辽宁省分析测试中心,辽宁,沈阳,110016;辽宁大学,化学与工程学院,沈阳,110036;华东师范大学,化学系,上海,200062 |
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| 摘 要： | 采用银基汞膜电极为工作电极，研究了硒（Ⅳ）在0．10moL／L HClO4与1mg／L Cu（Ⅱ）离子的电解液中，以硫氰酸根离子为增敏剂的阴极溶出行为，硒浓度在5～30μg/L范围内与其峰电流呈良好的线性关系，并研究了铁（Ⅲ）、铅（Ⅱ）、锌（Ⅱ）、镉（Ⅱ）、硫（Ⅱ）碲（Ⅳ）等离子对测定硒的干扰问题．
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| 关 键 词： | 阴极溶出伏安法 硒(Ⅳ) 汞膜电极 |
| 文章编号： | 1000-5846（2005）04-0289-04 |
| 收稿时间： | 2004-12-07 |
| 修稿时间： | 2004-12-07 |
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