| 空心阴极离子镀氮化钛工艺对膜层性能的影响 |
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| 引用本文： | 杨帆,林行方,陈楚.空心阴极离子镀氮化钛工艺对膜层性能的影响[J].上海交通大学学报,1988(5). |
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| 作者姓名： | 杨帆 林行方 陈楚 |
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| 作者单位： | 上海交通大学材料科学及工程系，上海交通大学材料科学及工程系，上海交通大学材料科学及工程系 |
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| 摘 要： | 本文主要研究HCD离子镀中工艺参数对膜层性能的影响。测量了镀膜室内温度及沉积膜厚的分布;研究了反应气体量对膜层性能的影响;分析讨论了温度、反应气体量的作用。结果表明,镀膜过程中工件最高温度低于500℃,可用于高速钢刀具镀膜,镀膜厚度沿工件架环向分布极不均匀,随氮流量增加,膜层组份,相结构及择优取向均发生变化,从而对膜层机械性能产生了影响。
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| 关 键 词： | 物理气相沉积 离子镀 氮化钛膜 |
A Research on the Technique and Properties of Ti-N Films Deposited by HCD Process |
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| Fang Fan Lin Xingfang Chen Chu.A Research on the Technique and Properties of Ti-N Films Deposited by HCD Process[J].Journal of Shanghai Jiaotong University,1988(5). |
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| Authors: | Fang Fan Lin Xingfang Chen Chu |
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| Institution: | Fang Fan Lin Xingfang Chen Chu |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | physical vabour deposition lon plating Ti-N films |
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